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不同晶向的藍寶石晶片,在應(yīng)用上也存在差異?

作者:超級管理員    來源:本站    發(fā)布時間:2024-04-18 16:38:45    瀏覽量:439


藍寶石是氧化鋁的單晶,屬三方晶系、六方結(jié)構(gòu),其晶體結(jié)構(gòu)是由三個氧原子和兩個鋁原子以共價鍵型式結(jié)合而成,排列十分緊密,具有較強的結(jié)合鏈和晶格能量,同時其晶體內(nèi)部幾乎沒有雜質(zhì)或缺陷,因此具有出色的電絕緣性、透明度、良好的導(dǎo)熱性和高剛性特性,廣泛用作光學(xué)窗口及高性能基板材料。不過藍寶石分子結(jié)構(gòu)復(fù)雜且存在各向異性,對不同晶向進行加工和使用,其對應(yīng)物理性能的影響也大不一樣,因此用途也存在差異。通常來說,藍寶石襯底有C、R、A和M平面方向可供選擇。






C面藍寶石的應(yīng)用

氮化鎵(GaN)材料作為寬禁帶第三代半導(dǎo)體,擁有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質(zhì)和強的抗輻照能力,在光電子、高溫大功率器件和高頻微波器件應(yīng)用方面有著廣闊的前景。不過由于GaN熔點高,目前難以得到大尺寸的單晶材料,因此常見的方式是在其他襯底上進行異質(zhì)外延生長,對于襯底材料有較高的要求。

GaN應(yīng)用的三大領(lǐng)域

相比其他晶面的藍寶石襯底,C面(<0001>取向)藍寶石晶片與Ⅲ-Ⅴ和Ⅱ-Ⅵ族(如GaN)沉積薄膜之間的晶格常數(shù)失配率相對較小,且連兩者與可作為緩沖層的AlN薄膜之間的晶格常數(shù)失配率更小,同時符合GaN磊晶制程中耐高溫的要求,因此是GaN生長常用的襯底材料,可用于制作白/藍/綠光LED、激光二極管、紅外探測儀等。

在以氮化鋁薄膜作為緩沖層的藍寶石襯底上生長GaN

值得一提的是,C面藍寶石襯底上生長的GaN薄膜是沿著其極性軸即c軸方向生長的,其不僅生長工藝和進磊晶的工藝成熟、成本相對較低、物化性能穩(wěn)定,而且加工性能也更好。C向藍寶石晶片的原子之間是以O(shè)-Al-Al-O-Al-Al-O的排列方式鍵合,而M向和A向藍寶石晶體則以Al-O-Al-O鍵合,由于Al-Al比Al-O鍵能小且鍵合要弱,因此相比M向和A向藍寶石晶體,C向藍寶石的加工主要是將Al-Al鍵打開,更易于加工,能夠獲得更高的表面質(zhì)量,進而獲得更好的氮化鎵磊晶品質(zhì),能夠提升超高亮度白/藍光LED的品質(zhì)。不過在另一方面,這種沿c軸方向生長的薄膜具有自發(fā)極化和壓電極化效應(yīng),導(dǎo)致薄膜內(nèi)部(有源層量子阱)產(chǎn)生強大的內(nèi)建電場,大大地降低了GaN薄膜的發(fā)光效率。





A面藍寶石的應(yīng)用

藍寶石單晶因其卓越的綜合性能,尤其是優(yōu)異的透過性,可以增強紅外線的穿透效果,成為了理想的中紅外窗口材料,在軍用光電設(shè)備中得到了廣泛的應(yīng)用。其中A面藍寶石為極性面(C面)法線方向上的面,為無極性面。通常a向生長的藍寶石晶體質(zhì)量優(yōu)于c向生長的晶體,具有更少的位錯、更少的鑲嵌結(jié)構(gòu)和更完整的晶體結(jié)構(gòu)等,因此具有更好的透光性能,同時由于A面上Al-O-Al-O的原子鍵合方式,使得a向藍寶石的硬度、耐磨性都要明顯高于c向,因此A向晶片大多用于作為窗口材料;除此之外,A向藍寶石還具有均勻的介電常數(shù)和高絕緣特性,因此可應(yīng)用于混合微電子技術(shù)中,也可用于高超導(dǎo)體的生長,如利用TlBaCaCuO(TbBaCaCuO)、Tl-2212,在藍寶石氧化鈰(CeO2)復(fù)合襯底上生長異質(zhì)外延超導(dǎo)薄膜等。不過,同樣因為Al-O較大的鍵能,在加工上存在較大難度。

圖片

A向藍寶石光學(xué)窗口(來源:上海鑫科匯新材料有限公司




R面/M面藍寶石的應(yīng)用

R面是藍寶石的非極性面,因此,藍寶石器件中R平面位置的變化使其具有不同的機械、熱、電氣和光學(xué)特性。一般來說,R面藍寶石襯底優(yōu)選用于硅的異質(zhì)外延沉積,主要用于制造半導(dǎo)體、微波和微電子集成電路應(yīng)用,在制作砣、其它超導(dǎo)組件、高阻電阻器、砷化鎵時亦可應(yīng)用R型基底生長。目前隨著智能手機和平板電腦系統(tǒng)等的普及,R面藍寶石襯底已代替了用于智能手機、平板電腦的現(xiàn)有化合物SAW器件,提供一種能夠改善性能的裝置用基板。

r面藍寶石晶片(來源:武漢晶芯光電有限公司)

M面為藍寶石的半極性面,由于藍寶石在日盲紫外探測中的應(yīng)用前景,寬禁帶MgZnO合金半導(dǎo)體薄膜越來越受到人們的關(guān)注。采用低壓金屬有機化學(xué)氣相沉積(LP-MOCVD)方法在M面(10-10)藍寶石晶片上制備了一系列不同成分的MgxZn1-xO薄膜。

M面(10-10)藍寶石晶片(來源:武漢晶芯光電有限公司)

除此之外,R面或M面用于生長非極性/半極性面外延層時,相比C面藍寶石襯底而言,其能夠部分甚至完全改善由極化場引起的在發(fā)光器件中產(chǎn)生的負面效應(yīng),因此用作led的襯底材料可有助于提高發(fā)光效率。不過加工或切割時選擇m面為切割面容易開裂,較難制備高質(zhì)量表面的制備。

參考來源:

  1. 胥先清.藍寶石孔加工工藝研究[J].科技創(chuàng)新與應(yīng)用.

  2. 武漢晶芯光電有限公司產(chǎn)品介紹

  3. 《藍寶石|藍寶石襯底介紹》, 超硬材料與磨料磨具.

  4. 《藍寶石陶瓷基板的三個基本方面及自身應(yīng)用里有哪些領(lǐng)域?》.展志科技

  5. 《藍寶石晶片加工中的技術(shù)關(guān)鍵-拋光工藝》,MCF半導(dǎo)體.

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